Технологическая установка ИД 175M С ПГ 1

УВЕЛИЧЕНИЕ ПРОИЗВОДИТЕЛЬНОСТИ

Плавная регулировка подачи материала обеспечивает увеличение производительности истирания до 20%.

ПОВЫШЕНИЕ РЕСУРСА ЗИПА

Равномерная подача материала снижает износ рабочих органов.

СНИЖЕНИЕ ПЫЛЕНИЯ

Крышка на бункере питателя и соединение питателя и истирателя гофрированным шлангом обеспечивают снижение уровня пыления при работе установки.

СНИЖЕНИЕ ИЗДЕРЖЕК

Равномерная автоматическая подача материала исключает необходимость постоянного присутствия оператора, который может обслуживать несколько установок.

УНИВЕРСАЛЬНОСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ

Благодаря своим малым габаритам и энергоемкости, подходит как для лабораторного применения, так и для производств с невысокой загрузкой.